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plasma清洗机在半导体封装的应用及清洗优点

发布时间:2021-10-14浏览:67次

  什么是Plasma?Plasma(等离子体)是物质的第四种状态气相混合体中性的、具有物理活性和化学惰性的一类物质。
 
  plasma清洗机在半导体封装的应用:
 
  1.焊线连接:工艺通过使用氩离子进行物理撞击,移除基材上的微量污染和氧化物。这种工艺对于解决焊线接合力不足是一种非常有效的途径。主要优点包括焊线接合力具有显著的增长。焊线过程中对于设备输出压力值的需求降低可以提高生产能力。
 
  2.塑封前清洗:通过清除芯片或者基板表面的氧化物和油渍,提高塑封料与基板以及芯片的粘接力,减少分层不良的发生。
 
  plasma清洗机清洗优点:
 
  1.清洗对象经等离子清洗之后是干燥的,不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以整个工艺流水线的处理效率;
 
  2.等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题;
 
  3.避免使用三氯乙烷等有害溶剂,这样清洗后不会产生有害污染物,因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。
 
  4.采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体的方向性不强,这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务,因此不需要过多考虑被清洗物体的形状,而且对这些难清洗部位的清洗效果更好;
 
  5.使用等离子清洗,可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成,因此具有产率高的特点;
 
  6.清洗过程不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂,这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺;而且避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施,所以生产场地很容易保持清洁卫生;
 
  7.等离子体清洗可以不分处理对象,它可以处理各种各样的材质,无论是金属、半导体、氧化物,还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗;
 
  8.plasma清洗机在完成清洗去污的同时,还可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等,这在许多应用中都是非常重要的。

 

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