简要描述:Diener 等离子去胶机 Tetra42特点:便捷的触摸屏操作界面专用软件支持自动/手动操作模式可切换(自动模式下可储存多套工艺程序),支持操作权限分级设定数字及图形化工艺参数控制及实时显示
品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 国产 |
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应用领域 | 医疗卫生,环保,生物产业,农业 | 控制方式 | 全自动控制(自动/手动切换) |
工艺气体 | O2、Ar、N2、CF4、SF6等 | 工艺气路 | 1-10 |
流量计 | MFC | 真空腔体 | 铝合金350x350x350 |
真空腔体容积 | 42L | 样品台 | 旋转样品台 |
外形尺寸 | W600xD850xH1700mm |
Diener 等离子去胶机 Tetra42
·便捷的触摸屏操作界面
·专用软件支持自动/手动操作模式可切换(自动模式下可储存多套工艺程序),支持操作权限分级设定
·数字及图形化工艺参数控制及实时显示
·支持6"/8"/12" wafer的去胶清洗
·安全及异常报警功能
·多语言:法语、英语,德语,中文
· 去除光刻胶
· 干刻或湿刻处理前或后
· SU-8或其他环氧基树脂
· MEMS制造中去除牺牲层
· 去除光刻胶,SU-8,环氧树脂
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